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2016年10月15日16:59

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【美術】二回目行って距離感の正体が解った「トーマス・ルフ展」

皆様、お今晩は。竹橋の東京国立近代美術館にて11月13日迄開催中の「トーマス・ルフ展」に行って参りました。その感想です。


トーマス・ルフ(1958年ドイツ、ツェル・アム・ハルマースバッハ生まれ)は、アンドレアス・グルスキーやトーマス・シュトゥルートらとともにデュッセルドルフ芸術アカデミーでベルント&ヒラ・ベッヒャー夫妻に学んだ「ベッヒャー派」として、1990年代以降、現代の写真表現をリードしてきた存在です。
本展はその世界が注目する写真家の、初期から初公開の最新作までを紹介する展覧会です。ルフは初期に発表した高さ約2メートルにもなる巨大なポートレート作品で注目されました。それ以降、建築、都市風景、ヌード、天体などさまざまなテーマの作品を展開、それらを通じ、現代人をとりまく世界のあり方についてのユニークなヴィジョンを提示してきました。
私たちの視覚や認識に深く組みこまれた写真というメディアそれ自体も、ルフ作品の重要なテーマのひとつです。ルフは自ら撮影したイメージだけでなく、インターネット上を流通するデジタル画像からコレクションしている古写真まで、あらゆる写真イメージを素材に用い、新たな写真表現の可能性を探究しています。
作品選択や展示構成にルフ自身が参加するなど、作家の全面的な協力を得て実現する今回の展覧会では、未発表の新作を含む作品世界の全貌を紹介します。

ええっと、この展覧会を見たのは9月25日の事なんですが、どーにも感想が浮かばなくて10月15日にもう一度行きました。そこで感じたのはこの作家さんは自分には縁もゆかりも無い人なんだなぁと言うことで終わらせてしまっては何ですので、何で距離感を感じでしまうかと申せば、同じくベッヒャー派の巨人であるアンドレアス・グルスキーの作品は有無を言わせぬ力業があって好きなのでありますが、この人の場合、「これが自分のスタイルだ!」と言うものに早々と見切りを付けて次の世界に移ってしまうようなところがありまして、良く言えば順応性が高い、悪く言えば節操と言うものが感じられないのであります。

敢えて特色を探そうとすれば、写真そのものよりも、それを素材にして別の作品に仕上げることが得意なので今回発表されたPressシリーズはまあ結構好きだったりします。

10年後ベッヒャー派の写真展が開かれたとしてもグルスキーの方には行くだろうけれども、この人の場合行かないだろうなぁと言うことが今回改めて実感できたのであります。


http://thomasruff.jp/
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